阿斯麥展出新型“High NA EUV”設備

阿斯麥展出新型“High NA EUV”設備

荷蘭光刻機制造商阿斯麥(ASML)當地時間2月9日在阿斯麥的荷蘭總部首次展出一臺新型“High NA EUV”光刻機。該公司稱,這款設備耗資3.5億美元,主要面向英特爾等高端半導體制造商。阿斯麥預計今年將出貨一部分,但在定製和安裝方面仍有工作要做。

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